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INTEGRATED FERROELECTRICS

INTEGRATED FERROELECTRICS

集成鐵電體

期刊周期:Monthly
研究方向:工程技術
影響因子:0.486
通訊地址:TAYLOR & FRANCIS LTD, 4 PARK SQUARE, MILTON PARK, ABINGDON, ENGLAND, OXON, OX14 4RN
官網:http://www.tandfonline.com/toc/ginf20/current
投稿地址:http://www.tandfonline.com/action/authorSubmission?journalCode=ginf20&page=instructions
審稿速度:約3.0個月

  中文簡介

集成鐵電學為從事集成鐵電器件研究、設計、開發、制造和應用的電子工程師、物理學家、過程和系統工程師、陶藝家和化學家提供了一個國際性、跨學科的論壇。這種器件將鐵電薄膜和半導體集成電路芯片結合起來。其結果是一種新型的電子器件,它結合了鐵電材料獨特的非揮發性存儲器、熱釋電、壓電、光折變、硬輻射、聲學和/或介電性能,以及半導體集成電路技術的動態存儲器、邏輯和/或放大性能、小型化和低成本優勢。

  英文簡介

Integrated Ferroelectrics provides an international, interdisciplinary forum for electronic engineers and physicists as well as process and systems engineers, ceramicists, and chemists who are involved in research, design, development, manufacturing and utilization of integrated ferroelectric devices. Such devices unite ferroelectric films and semiconductor integrated circuit chips. The result is a new family of electronic devices, which combine the unique nonvolatile memory, pyroelectric, piezoelectric, photorefractive, radiation-hard, acoustic and/or dielectric properties of ferroelectric materials with the dynamic memory, logic and/or amplification properties and miniaturization and low-cost advantages of semiconductor i.c. technology.

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